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Fully Automated Wafer Photoresist Strip & Metal Etch Wet Tool - PR1184925-3460-W
Veröffentlicht
19.05.2026
Angebotsfrist
—
PR1184925-3460-W Fully Automated Wafer Photoresist Strip & Metal Etch Wet Tool
Zeitplan
Veröffentlichung 19.05.26 | Teilnahmefrist 18.06.26 |
Ausschreibung
Reichweite
EU-weit
Vergabeart
neg-w-call
Erfüllungsort
München, Deutschland
Vertragslaufzeit
16 Tage
E-Mail
einkauf@zv.fraunhofer.de
FreischaltenTelefon
+49891205-0
FreischaltenWebsite
https://vergabe.fraunhofer.de/
FreischaltenEignungs- & Bewertungskriterien
1 Eignungskriterien · 2 ZuschlagskriterienEignungskriterien
Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre - Dieses Kriterium ist NICHT das einzige Eignungskriterium. Die vollständigen Eignungskriterien finden Sie hier
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