Ausschreibungen Paul Scherrer Institut (PSI)

The equipment to be procured is a multitube thermal processing furnace (MTPF) essential for the deposition of materials for quantum, photonic and x-ray applications of the groups at the LNQ and LXN laboratories and for all PSI cleanroom users. The MTPF should have a horizontal arrangement of the tubes and should be capable to process in one load up to 50 wafers of 200 mm diameter with good within-wafer, wafer-to-wafer and batch-to-batch uniformity. The MTPF should have an automation option allowing to process, at least, 4 wafer batches of 50 wafers in the same or different tubes one after the other without the presence of operator. The MTPF shall be delivered with four 200 mm compatible tubes: – Tube 1: atmospheric thermal dry and wet oxidation (quartz tube up to 1050°C; optional SiC tube up to 1250°C); – Tube 2: LPCVD stoichiometric Si3N4 layers for photonic applications and low-stress SiNx layers for membrane fabrication; – Tube 3: LPCVD TEOS-based SiO2 layers; – Tube 4: LPCVD polycrystalline and amorphous Si. The MTPF shall be installed through the wall, with the loading station on the cleanroom side and the remaining equipment (furnaces, electronic racks, gas cabinets, pumps and related infrastructure) on the gray room side. It shall be capable of 24/7 operation with a guaranteed uptime of at least 90% and a minimum 2-year warranty.

Bei der zu beschaffende Anlage handelt es sich um einen Mehrrohr-Thermoprozessofen (MTPF), der für die Abscheidung von Materialien für Quanten-, Photonik- und Röntgenanwendungen der Gruppen in den Laboren LNQ und LXN sowie für alle Nutzer der PSI-Reinräume unerlässlich ist. Der MTPF sollte über eine horizontale Anordnung der Röhren verfügen und in der Lage sein, in einem Durchlauf bis zu 50 Wafer mit einem Durchmesser von 200 mm mit guter Gleichmäßigkeit innerhalb eines Wafers, von Wafer zu Wafer und von Charge zu Charge zu bearbeiten. Die MTPF sollte über eine Automatisierungsoption verfügen, die es ermöglicht, mindestens 4 Wafer-Chargen à 50 Wafer in denselben oder verschiedenen Röhren nacheinander ohne Anwesenheit eines Bedieners zu bearbeiten. Das MTPF wird mit vier 200-mm-kompatiblen Röhren geliefert:– Röhre 1: thermische Trocken- und Nassoxidation unter atmosphärischen Bedingungen (Quarzröhre bis 1050 °C; optional SiC-Röhre bis 1250 °C);– Röhre 2: LPCVD-Schichten aus stöchiometrischem Si3N4 für photonische Anwendungen und nierdig-verspannten SiNx-Schichten für die Membranenherstellung;– Röhre 3: LPCVD-Schichten aus SiO2 auf TEOS-Basis;– Röhre 4: LPCVD-Schichten aus polykristallinem und amorphem Si. Die MTPF ist durch die Wand hindurch zu installieren, wobei sich die Beladestation auf der Reinraumseite und die übrigen Komponenten (Öfen, Elektronikschränke, Gasschränke, Pumpen und zugehörige Infrastruktur) auf der Grauraumseite befinden. Sie muss für den 24/7-Betrieb ausgelegt sein, mit einer garantierten Verfügbarkeit von mindestens 90 % und einer Mindestgarantie von 2 Jahren.

The equipment to be procured is a multitube thermal processing furnace (MTPF) essential for the deposition of materials for quantum, photonic and x-ray applications of the groups at the LNQ and LXN laboratories and for all PSI cleanroom users. The MTPF should have a horizontal arrangement of the tubes and should be capable to process in one load up to 50 wafers of 200 mm diameter with good within-wafer, wafer-to-wafer and batch-to-batch uniformity. The MTPF should have an automation option allowing to process, at least, 4 wafer batches of 50 wafers in the same or different tubes one after the other without the presence of operator. The MTPF shall be delivered with four 200 mm compatible tubes: – Tube 1: atmospheric thermal dry and wet oxidation (quartz tube up to 1050°C; optional SiC tube up to 1250°C); – Tube 2: LPCVD stoichiometric Si3N4 layers for photonic applications and low-stress SiNx layers for membrane fabrication; – Tube 3: LPCVD TEOS-based SiO2 layers; – Tube 4: LPCVD polycrystalline and amorphous Si. The MTPF shall be installed through the wall, with the loading station on the cleanroom side and the remaining equipment (furnaces, electronic racks, gas cabinets, pumps and related infrastructure) on the gray room side. It shall be capable of 24/7 operation with a guaranteed uptime of at least 90% and a minimum 2-year warranty.

Bei der zu beschaffende Anlage handelt es sich um einen Mehrrohr-Thermoprozessofen (MTPF), der für die Abscheidung von Materialien für Quanten-, Photonik- und Röntgenanwendungen der Gruppen in den Laboren LNQ und LXN sowie für alle Nutzer der PSI-Reinräume unerlässlich ist. Der MTPF sollte über eine horizontale Anordnung der Röhren verfügen und in der Lage sein, in einem Durchlauf bis zu 50 Wafer mit einem Durchmesser von 200 mm mit guter Gleichmäßigkeit innerhalb eines Wafers, von Wafer zu Wafer und von Charge zu Charge zu bearbeiten. Die MTPF sollte über eine Automatisierungsoption verfügen, die es ermöglicht, mindestens 4 Wafer-Chargen à 50 Wafer in denselben oder verschiedenen Röhren nacheinander ohne Anwesenheit eines Bedieners zu bearbeiten. Das MTPF wird mit vier 200-mm-kompatiblen Röhren geliefert:– Röhre 1: thermische Trocken- und Nassoxidation unter atmosphärischen Bedingungen (Quarzröhre bis 1050 °C; optional SiC-Röhre bis 1250 °C);– Röhre 2: LPCVD-Schichten aus stöchiometrischem Si3N4 für photonische Anwendungen und nierdig-verspannten SiNx-Schichten für die Membranenherstellung;– Röhre 3: LPCVD-Schichten aus SiO2 auf TEOS-Basis;– Röhre 4: LPCVD-Schichten aus polykristallinem und amorphem Si. Die MTPF ist durch die Wand hindurch zu installieren, wobei sich die Beladestation auf der Reinraumseite und die übrigen Komponenten (Öfen, Elektronikschränke, Gasschränke, Pumpen und zugehörige Infrastruktur) auf der Grauraumseite befinden. Sie muss für den 24/7-Betrieb ausgelegt sein, mit einer garantierten Verfügbarkeit von mindestens 90 % und einer Mindestgarantie von 2 Jahren.

Mineralisolierte Kabel (MI) (PYROTENAX) Spulen für die Solenoid- und Dipolmagnete des neuen IMPACT-Projekts am Paul Scherrer Institut, Schweiz. Weitere Angaben siehe Spezifikation PSI-HIPA-SS84-002 Rev.1.0.

Mineralisolierte Kabel (MI) (PYROTENAX) Spulen für die Solenoid- und Dipolmagnete des neuen IMPACT-Projekts am Paul Scherrer Institut, Schweiz. Weitere Angaben siehe Spezifikation PSI-HIPA-SS84-002 Rev.1.0.

The iron yokes for the solenoid and dipole magnets, completed with PYROTENAX coils, for the new IMPACT project at Paul Scherrer Institute, Switzerland. For details see the Requirements Specification PSI-HIPA-SS84-008 Rev.1.0.

Technical design, manufacturing, and installation of an ultra-high vacuum (UHV) infrastructure connecting several experimental facilities for thin film deposition and in situ characterizations. The complete experimental platform is called Materials Innovation Cluster (MIC) at Paul Scherrer Institute, Switzerland. For details see the Requirements Specification PSI-PD37-001 Rev.1.0.

Technical design, manufacturing, and installation of an ultra-high vacuum (UHV) infrastructure connecting several experimental facilities for thin film deposition and in situ characterizations. The complete experimental platform is called Materials Innovation Cluster (MIC) at Paul Scherrer Institute, Switzerland. For details see the Requirements Specification PSI-PD37-001 Rev.1.0.

Delivery and installation of one Triple quadrupole inductively coupled plasma mass spectrometer to Paul Scherrer Institute, Switzerland. The mass spectrometer is essential in radioanalytics due to its ability to provide highly sensitive and specific detection of trace radionuclides in complex matrices. The advanced sensitivity, precision, and ability to reduce interference through the triple quadrupole configuration make it ideal for quantifying low levels of radioisotopes in environmental, decommissioning, and nuclear samples. This ensures accurate and reliable measurements required for regulatory, safety, and research applications in radiochemistry and nuclear science. For details see the Requirements Specification PSI-BU96-001 Rev. 1.30.